小型多靶磁控溅射镀膜仪

1 1 腔室尺寸：Ф246×228mm（具体尺寸以设计为准），1Cr18Ni9Ti**不锈钢材质，氩弧焊接；

2 2 样品台尺寸：Ф100mm，高度：60～120mm可调，旋转：0-20r/min可调；可加热至300℃；同时可选配偏压功能；

3 3 真空系统：机械泵（TRP-12,3L/S）+进口Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)；GDC-25b电磁挡板阀，DN63mm 限流阀；

4 极限真空：8.0×10^-5Pa；

5 真空抽速：大气～8×10^-4Pa ≤ 30min；

6 真空测量：全量程复合真空计，测量范围：10⁵Pa～10^-5Pa；

7 磁控靶：Φ2英寸3只（含靶挡板），兼容直流电源和射频电源；

8 溅射电源：1台500W直流溅射电源和1台300W全自动匹配射频电源；

9 质量流量计：进口10sccm、50sccm 控制器各一套；

10 10 膜厚控制系统：进口Inficon SQM-160单水冷探头，精度0.1Å（选配）；

11 11 控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；

12 12 设备外形：L60cm×W60cm×H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口；

  13 设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；

14       14  冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷部件提供稳定的制冷水；